原料储存与计量系统：
原料储罐：用于储存各种原材料，如磨料、氧化剂、络合剂、表面活性剂等。储罐通常采用耐腐蚀材料制成，并配备液位计、温度计等仪表，以监测原料的储存情况。
计量泵：用于精确计量各种原料的加入量，确保抛光液的配方准确。
反应系统：
反应釜：中试反应釜通常比实验室小试反应釜更大，具有搅拌、加热、冷却等功能。反应釜内装有搅拌器，以确保原料充分混合反应。
加热装置：可以采用蒸汽加热、电加热或导热油加热等方式，为反应提供所需的温度。
冷却装置：用于控制反应温度，防止反应过热。
过滤与分离系统：
过滤器：用于过滤反应后的抛光液，去除其中的杂质和颗粒。过滤器的过滤精度应根据产品要求进行选择。
离心机：用于分离抛光液中的固体颗粒和液体成分，以提高抛光液的纯度和稳定性。
检测与分析系统：
粒度分析仪：用于测量抛光液中磨料颗粒的粒度分布。
Zeta 电位分析仪：用于测量抛光液中颗粒的 Zeta 电位，以评估颗粒的稳定性和分散性。
表面张力仪：用于测量抛光液的表面张力。
其他分析仪器：如 pH 计、电导率仪、粘度计等，用于测量抛光液的其他物理化学性质。
控制系统：
自动化控制系统：用于控制中试装置的各个环节，如原料计量、反应温度、搅拌速度、过滤压力等。
安全保护系统：包括温度超限报警、压力超限报警、液位超限报警等，确保中试装置的安全运行。
CMP 抛光液生产工艺优化：通过中试装置，可以对不同的生产工艺参数进行试验和优化，确定最佳的生产工艺。
产品性能评估：中试装置可以生产出一定规模的抛光液产品，用于评估产品的性能和质量，为大规模生产提供参考。
小规模生产：在新产品开发或市场需求较小的情况下，中试装置可以进行小规模生产，满足市场需求。
安全操作：中试装置涉及到多种化学原料和高温、高压等操作条件，必须严格遵守安全操作规程，确保操作人员的安全。
设备维护：定期对中试装置进行维护和检修，确保设备的性能和可靠性。
质量控制：建立严格的质量控制体系，对中试生产的抛光液进行检测和分析，确保产品质量符合要求。
数据记录与分析：详细记录中试过程中的各种数据和结果，并进行分析和总结，为进一步优化生产工艺和产品性能提供依据。
